目前石英(ying)坩堝(guo)生產(chan)涂層技術已被大(da)多數廠家使(shi)用就是在普通石英(ying)砂(sha)溶制(zhi)的坩堝(guo)表面涂上一層高(gao)純度石英(ying)砂(sha)使(shi)其形成致(zhi)密(mi)層，其致(zhi)密(mi)層能阻止單晶硅高(gao)溫(wen)拉制(zhi)過(guo)程中硅與石英(ying)坩堝(guo)反應提高(gao)成晶率(lv)。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純石(shi)(shi)英砂→高純石(shi)(shi)墨模具→真空(kong)裝料成型→真空(kong)電弧(hu)熔制→自(zi)然冷(leng)卻脫模→石(shi)(shi)英坩堝(guo)初步(bu)檢測(ce)→冷(leng)加工噴(pen)砂、切斷、倒(dao)角→石(shi)(shi)英坩堝(guo)二(er)次(ci)檢測(ce)→超(chao)凈清洗、超(chao)聲、高壓(ya)噴(pen)淋、自(zi)動烘干→石(shi)(shi)英坩堝(guo)三次(ci)檢驗→真空(kong)包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英(ying)坩堝可(ke)在1450度以下使用，分透明(ming)(ming)和不(bu)透明(ming)(ming)兩種(zhong)。用電(dian)弧法制(zhi)的半透明(ming)(ming)石英(ying)坩堝是拉制(zhi)大直徑單晶硅，發展(zhan)大規模集成電(dian)路必不(bu)可(ke)少的基礎材料。

當今，世界半導體(ti)工業發(fa)達(da)已用此坩(gan)堝(guo)取代了(le)小的透(tou)明石英坩(gan)堝(guo)。具有高(gao)純度(du)、耐溫性強(qiang)、尺寸大(da)精度(du)高(gao)、保溫性好、節約能源、質量穩定等(deng)優點。

　　2、不能和HF接觸，高溫時，較容(rong)易(yi)易(yi)和苛性(xing)堿及堿金(jin)屬的碳(tan)酸鹽作(zuo)用。

　　3、石英坩堝(guo)適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔(rong)(rong)劑(ji)熔(rong)(rong)融樣(yang)品(pin)(pin)和用(yong)Na2S207（先在212度烘干(gan)）作熔(rong)(rong)劑(ji)處理(li)樣(yang)品(pin)(pin)。

　　4、石英質脆，易破，使(shi)用時要(yao)注(zhu)意。

　　5、除HF外，普通稀無機酸可用作清洗液。