目前(qian)石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)生產(chan)涂層技術(shu)已被大多數廠(chang)家使(shi)用就是在普通石(shi)英(ying)砂(sha)溶制(zhi)的坩(gan)堝(guo)(guo)表面涂上一層高純(chun)度石(shi)英(ying)砂(sha)使(shi)其形成致(zhi)密(mi)層，其致(zhi)密(mi)層能阻止單晶硅高溫拉(la)制(zhi)過(guo)程(cheng)中硅與(yu)石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)反應提高成晶率(lv)。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)純(chun)石(shi)(shi)英(ying)(ying)砂→高(gao)純(chun)石(shi)(shi)墨模具→真空(kong)(kong)(kong)裝料成(cheng)型→真空(kong)(kong)(kong)電(dian)弧熔制→自(zi)然(ran)冷(leng)卻(que)脫(tuo)模→石(shi)(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝(guo)初步檢(jian)測(ce)→冷(leng)加(jia)工噴砂、切斷(duan)、倒角→石(shi)(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝(guo)二次(ci)檢(jian)測(ce)→超凈清洗、超聲、高(gao)壓(ya)噴淋、自(zi)動烘干→石(shi)(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝(guo)三次(ci)檢(jian)驗→真空(kong)(kong)(kong)包裝→成(cheng)品入(ru)庫(ku)。

      石英坩堝用途

1、石英(ying)坩(gan)堝可在1450度以下使用(yong)，分透明和(he)不(bu)透明兩種。用(yong)電(dian)弧法制的(de)半透明石英(ying)坩(gan)堝是拉制大(da)直徑(jing)單(dan)晶硅，發展大(da)規模(mo)集成(cheng)電(dian)路必不(bu)可少的(de)基礎材料。

當(dang)今，世界半導(dao)體工業發(fa)達已用此坩堝取(qu)代了小(xiao)的(de)透明石(shi)英坩堝。具有高(gao)(gao)純度、耐溫性(xing)強(qiang)、尺寸大(da)精(jing)度高(gao)(gao)、保溫性(xing)好(hao)、節約能源、質量穩(wen)定等(deng)優點。

　　2、不能和HF接觸(chu)，高溫時，較容易易和苛性堿及堿金(jin)屬的碳酸鹽(yan)作用。

　　3、石英坩堝適(shi)于用K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔劑(ji)熔融樣(yang)品和(he)用Na2S207（先(xian)在(zai)212度烘(hong)干）作(zuo)熔劑(ji)處理樣(yang)品。

　　4、石英質脆，易破，使(shi)用時要注意。

　　5、除HF外，普通稀無機酸可用作(zuo)清洗液。