目前石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)生產涂層技術已被大多數(shu)廠家使用就是(shi)在普通石(shi)英(ying)砂溶制的坩(gan)堝(guo)表面涂上一層高純度石(shi)英(ying)砂使其(qi)形成(cheng)致密層，其(qi)致密層能(neng)阻止單晶硅(gui)高溫(wen)拉制過(guo)程中硅(gui)與石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)反應提高成(cheng)晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤(you)尼明高純石英(ying)砂→高純石墨模具→真(zhen)空裝料成(cheng)型(xing)→真(zhen)空電弧(hu)熔制→自然冷(leng)卻(que)脫模→石英(ying)坩(gan)堝初步(bu)檢測→冷(leng)加(jia)工噴(pen)砂、切斷、倒(dao)角→石英(ying)坩(gan)堝二次(ci)檢測→超凈(jing)清洗、超聲(sheng)、高壓噴(pen)淋、自動烘干→石英(ying)坩(gan)堝三(san)次(ci)檢驗→真(zhen)空包裝→成(cheng)品入(ru)庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝(guo)可在1450度(du)以下使用，分透明(ming)和不透明(ming)兩種。用電(dian)(dian)弧法制(zhi)的半透明(ming)石英坩堝(guo)是拉制(zhi)大直徑單晶硅，發展大規(gui)模集成電(dian)(dian)路必不可少的基礎材料。

當今(jin)，世界半導體工業發達已用此(ci)坩堝取代了(le)小(xiao)的(de)透明石英坩堝。具(ju)有高純度、耐溫性強、尺(chi)寸大精度高、保溫性好、節約能(neng)源、質量穩定等優點。

　　2、不能和HF接觸，高溫(wen)時，較(jiao)容易(yi)(yi)易(yi)(yi)和苛性(xing)堿(jian)及堿(jian)金屬的碳酸鹽作用。

　　3、石英(ying)坩堝適于(yu)用(yong)K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔(rong)劑熔(rong)融(rong)樣品和用(yong)Na2S207（先在212度烘干(gan)）作(zuo)熔(rong)劑處理(li)樣品。

　　4、石英質脆，易破，使用時要(yao)注意(yi)。

　　5、除HF外，普通(tong)稀無機酸(suan)可用作清洗液。