目前石(shi)英(ying)(ying)坩堝生產涂(tu)層(ceng)(ceng)技術已被大(da)多數廠家使用(yong)就是在普通(tong)石(shi)英(ying)(ying)砂溶制(zhi)(zhi)的坩堝表面涂(tu)上(shang)一層(ceng)(ceng)高純度石(shi)英(ying)(ying)砂使其形成致密層(ceng)(ceng)，其致密層(ceng)(ceng)能(neng)阻止單(dan)晶(jing)硅高溫(wen)拉制(zhi)(zhi)過(guo)程中硅與石(shi)英(ying)(ying)坩堝反應提(ti)高成晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純石(shi)英(ying)砂→高純石(shi)墨模具→真(zhen)空裝(zhuang)料成型→真(zhen)空電弧熔(rong)制→自(zi)然冷卻脫模→石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)初步(bu)檢測→冷加工(gong)噴砂、切斷、倒角(jiao)→石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)二次(ci)檢測→超凈清洗、超聲、高壓噴淋(lin)、自(zi)動烘(hong)干→石(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)三次(ci)檢驗→真(zhen)空包(bao)裝(zhuang)→成品(pin)入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝可(ke)在1450度以下使用，分透明和(he)不透明兩種。用電(dian)弧法制(zhi)的半透明石英坩堝是拉制(zhi)大(da)(da)直(zhi)徑(jing)單晶硅，發展大(da)(da)規模(mo)集成電(dian)路必(bi)不可(ke)少(shao)的基礎材料。

當今，世界半導體工業(ye)發達已用此坩堝取代了小(xiao)的透明石英(ying)坩堝。具有高(gao)純度、耐(nai)溫性強、尺寸(cun)大精度高(gao)、保溫性好、節約能源、質(zhi)量(liang)穩定(ding)等優(you)點。

　　2、不能和HF接(jie)觸(chu)，高溫時，較容(rong)易易和苛性堿及堿金屬(shu)的碳(tan)酸鹽作用。

　　3、石英坩(gan)堝(guo)適于用K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔劑(ji)熔融樣(yang)品和用Na2S207（先在212度烘干）作(zuo)熔劑(ji)處理樣(yang)品。

　　4、石英質脆，易破(po)，使用時要注(zhu)意。

　　5、除HF外，普通稀(xi)無機酸(suan)可(ke)用作清洗液。