目(mu)前石英坩(gan)堝(guo)生產涂層(ceng)技術已被大多數廠家使用就是(shi)在普通石英砂溶制(zhi)的坩(gan)堝(guo)表面涂上一層(ceng)高純度石英砂使其(qi)形成(cheng)(cheng)致密層(ceng)，其(qi)致密層(ceng)能阻止單晶硅高溫拉制(zhi)過程中硅與石英坩(gan)堝(guo)反應提高成(cheng)(cheng)晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼(ni)明高(gao)(gao)純石(shi)英(ying)砂(sha)(sha)→高(gao)(gao)純石(shi)墨模(mo)具→真空裝(zhuang)料成型→真空電弧熔制→自然冷卻(que)脫模(mo)→石(shi)英(ying)坩堝(guo)初步檢(jian)測→冷加工噴(pen)砂(sha)(sha)、切(qie)斷、倒角→石(shi)英(ying)坩堝(guo)二次檢(jian)測→超凈清洗(xi)、超聲(sheng)、高(gao)(gao)壓噴(pen)淋、自動烘干→石(shi)英(ying)坩堝(guo)三(san)次檢(jian)驗→真空包(bao)裝(zhuang)→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英(ying)坩(gan)堝可(ke)在1450度以下使用，分透(tou)明和不(bu)透(tou)明兩種(zhong)。用電弧法制的半透(tou)明石(shi)英(ying)坩(gan)堝是拉(la)制大(da)直徑單晶硅，發展(zhan)大(da)規模集成電路必不(bu)可(ke)少的基礎材料。

當今(jin)，世(shi)界半導體工業(ye)發(fa)達(da)已用(yong)此坩(gan)堝(guo)取代(dai)了小(xiao)的透明石英(ying)坩(gan)堝(guo)。具有高(gao)純度、耐溫性強、尺寸(cun)大(da)精度高(gao)、保溫性好、節約(yue)能源、質量穩定等優點(dian)。

　　2、不能和(he)HF接(jie)觸，高溫時，較容(rong)易(yi)易(yi)和(he)苛(ke)性堿及堿金屬(shu)的(de)碳酸鹽作用。

　　3、石英坩(gan)堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔(rong)劑熔(rong)融樣品和用(yong)Na2S207（先(xian)在(zai)212度烘干）作(zuo)熔(rong)劑處理樣品。

　　4、石英質脆，易破，使(shi)用時要注意。

　　5、除HF外(wai)，普通稀(xi)無機酸可用作清洗液。