目前石(shi)英(ying)坩堝生(sheng)產涂層技(ji)術已被大多數廠家使用就是在普通石(shi)英(ying)砂溶(rong)制的坩堝表(biao)面(mian)涂上一層高純(chun)度石(shi)英(ying)砂使其形(xing)成致密層，其致密層能阻止單晶硅高溫拉制過程中(zhong)硅與石(shi)英(ying)坩堝反應提高成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)純石(shi)英砂→高(gao)純石(shi)墨(mo)模具→真空裝料成型→真空電(dian)弧熔制→自(zi)(zi)然冷卻脫(tuo)模→石(shi)英坩堝(guo)初步檢測(ce)→冷加工(gong)噴(pen)(pen)砂、切斷、倒角→石(shi)英坩堝(guo)二次檢測(ce)→超凈(jing)清洗(xi)、超聲、高(gao)壓噴(pen)(pen)淋(lin)、自(zi)(zi)動烘干→石(shi)英坩堝(guo)三次檢驗(yan)→真空包裝→成品入庫(ku)。

      石英坩堝用途

1、石英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)可(ke)在1450度以下使用，分(fen)透明(ming)和不透明(ming)兩種。用電(dian)弧法(fa)制(zhi)的半透明(ming)石英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)是拉制(zhi)大直徑單晶硅，發展(zhan)大規模集成電(dian)路必不可(ke)少的基礎(chu)材料(liao)。

當今(jin)，世(shi)界半(ban)導(dao)體工業(ye)發達已用此(ci)坩堝(guo)取代了小的透明石英坩堝(guo)。具有高純(chun)度、耐溫性強、尺寸大精度高、保(bao)溫性好、節約能源、質量(liang)穩定等優點。

　　2、不(bu)能和HF接觸，高(gao)溫時，較(jiao)容易(yi)易(yi)和苛(ke)性堿及堿金屬的碳酸(suan)鹽作用。

　　3、石英坩堝(guo)適于用K2S2O7,KHSO4作熔劑(ji)熔融樣品和(he)用Na2S207（先(xian)在(zai)212度烘干）作熔劑(ji)處理樣品。

　　4、石英質脆，易(yi)破(po)，使用時(shi)要注(zhu)意(yi)。

　　5、除HF外，普通稀無機酸可用(yong)作(zuo)清洗液。