目前石(shi)英(ying)坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)生產涂層技術(shu)已(yi)被大多數(shu)廠家(jia)使用(yong)就是在普通(tong)石(shi)英(ying)砂溶制的(de)坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)表面(mian)涂上一層高純度石(shi)英(ying)砂使其(qi)形成(cheng)致密層，其(qi)致密層能阻(zu)止單晶硅高溫拉制過程(cheng)中(zhong)硅與(yu)石(shi)英(ying)坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)反應提高成(cheng)晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤(you)尼明高(gao)純石(shi)英(ying)砂→高(gao)純石(shi)墨模具→真(zhen)空裝料成(cheng)型(xing)→真(zhen)空電弧熔制→自然冷卻(que)脫模→石(shi)英(ying)坩(gan)堝初步檢測(ce)→冷加工噴砂、切斷(duan)、倒角(jiao)→石(shi)英(ying)坩(gan)堝二次(ci)檢測(ce)→超凈清洗、超聲、高(gao)壓噴淋、自動烘(hong)干(gan)→石(shi)英(ying)坩(gan)堝三次(ci)檢驗→真(zhen)空包裝→成(cheng)品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝可在1450度以下使用，分(fen)透(tou)明和不透(tou)明兩種。用電弧法制的(de)半透(tou)明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發展大規模(mo)集(ji)成電路必不可少(shao)的(de)基礎材料。

當今，世界半導體(ti)工業(ye)發達(da)已用此坩堝(guo)取(qu)代了小的透明石(shi)英(ying)坩堝(guo)。具(ju)有高純度(du)、耐溫性(xing)強、尺寸大精度(du)高、保(bao)溫性(xing)好、節約能源、質(zhi)量(liang)穩定等(deng)優(you)點。

　　2、不能和HF接觸，高溫時，較容易(yi)易(yi)和苛性堿(jian)及堿(jian)金屬的碳酸鹽作(zuo)用(yong)。

　　3、石英坩堝適于用K2S2O7,KHSO4作熔(rong)(rong)劑熔(rong)(rong)融樣(yang)品和用Na2S207（先在212度烘干）作熔(rong)(rong)劑處(chu)理樣(yang)品。

　　4、石英質(zhi)脆，易破，使(shi)用時要(yao)注(zhu)意。

　　5、除HF外(wai)，普通(tong)稀無(wu)機酸可用(yong)作清洗(xi)液。