目前石英坩(gan)(gan)堝生產涂層技術已被大多數(shu)廠家使(shi)用就(jiu)是(shi)在普通石英砂溶(rong)制的坩(gan)(gan)堝表面涂上一層高(gao)純(chun)度石英砂使(shi)其(qi)形成致密層，其(qi)致密層能(neng)阻(zu)止單晶硅高(gao)溫拉(la)制過程中(zhong)硅與石英坩(gan)(gan)堝反應提高(gao)成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼(ni)明高(gao)純石英砂→高(gao)純石墨(mo)模具→真空裝(zhuang)料(liao)成(cheng)型→真空電弧熔制→自(zi)然冷卻脫模→石英坩(gan)堝初步檢(jian)(jian)測→冷加(jia)工(gong)噴砂、切(qie)斷(duan)、倒角→石英坩(gan)堝二次(ci)檢(jian)(jian)測→超凈清洗、超聲、高(gao)壓噴淋、自(zi)動烘干(gan)→石英坩(gan)堝三(san)次(ci)檢(jian)(jian)驗→真空包裝(zhuang)→成(cheng)品入庫(ku)。

      石英坩堝用途

1、石英(ying)坩堝可在1450度以下使用，分透明(ming)和不透明(ming)兩種(zhong)。用電弧法制的半透明(ming)石英(ying)坩堝是拉制大(da)直(zhi)徑單晶硅，發(fa)展大(da)規模集成(cheng)電路(lu)必不可少的基礎材料(liao)。

當今，世界(jie)半(ban)導體工業發達已用此坩堝(guo)取代了小的透明石英(ying)坩堝(guo)。具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節約能源(yuan)、質量穩定等優(you)點。

　　2、不(bu)能和(he)HF接觸，高(gao)溫(wen)時，較容易易和(he)苛(ke)性堿及堿金屬的(de)碳酸鹽作用。

　　3、石英坩堝(guo)適(shi)于用K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑(ji)(ji)熔(rong)融樣品(pin)和用Na2S207（先在212度(du)烘(hong)干）作熔(rong)劑(ji)(ji)處理樣品(pin)。

　　4、石英質脆，易破，使用時要注意。

　　5、除HF外，普通稀(xi)無機酸可(ke)用(yong)作清洗液。