目(mu)前石(shi)(shi)(shi)英坩堝(guo)生產涂層技術已被(bei)大多數廠家使用就是在普通石(shi)(shi)(shi)英砂(sha)溶制的坩堝(guo)表面涂上一(yi)層高(gao)(gao)純(chun)度石(shi)(shi)(shi)英砂(sha)使其形成致密層，其致密層能阻止單晶(jing)硅(gui)高(gao)(gao)溫拉制過程(cheng)中硅(gui)與石(shi)(shi)(shi)英坩堝(guo)反應(ying)提高(gao)(gao)成晶(jing)率(lv)。

　　石英坩堝工藝流程

尤(you)尼(ni)明高純(chun)石英(ying)(ying)砂→高純(chun)石墨模具→真空裝料成(cheng)型→真空電弧熔制(zhi)→自(zi)然冷卻脫模→石英(ying)(ying)坩堝(guo)初步檢測(ce)→冷加工噴(pen)砂、切斷、倒角→石英(ying)(ying)坩堝(guo)二次(ci)檢測(ce)→超凈清洗、超聲、高壓噴(pen)淋、自(zi)動烘(hong)干→石英(ying)(ying)坩堝(guo)三次(ci)檢驗→真空包裝→成(cheng)品(pin)入(ru)庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英坩堝(guo)可在1450度以下使用，分(fen)透明(ming)(ming)和不透明(ming)(ming)兩種。用電弧法制的半透明(ming)(ming)石(shi)英坩堝(guo)是(shi)拉(la)制大(da)直徑(jing)單晶(jing)硅，發展大(da)規模集成電路(lu)必不可少的基礎材料。

當今，世(shi)界半導體工業發達(da)已用此坩(gan)堝取代了小的(de)透明石英(ying)坩(gan)堝。具有高(gao)純(chun)度、耐溫(wen)(wen)性(xing)強、尺寸大精度高(gao)、保溫(wen)(wen)性(xing)好、節約能源、質量穩定等優(you)點。

　　2、不(bu)能和HF接(jie)觸，高溫時，較容(rong)易易和苛性堿及堿金屬的(de)碳酸鹽作用。

　　3、石英坩(gan)堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑(ji)熔(rong)融樣(yang)品(pin)和用(yong)Na2S207（先在212度烘干）作熔(rong)劑(ji)處(chu)理樣(yang)品(pin)。

　　4、石英(ying)質脆，易破(po)，使用時要注意。

　　5、除HF外，普通(tong)稀無機酸可用作清洗液。