目前(qian)石(shi)英(ying)坩堝生產涂層(ceng)技術已被大多(duo)數廠(chang)家使用就是在普(pu)通石(shi)英(ying)砂(sha)溶制的(de)坩堝表面涂上一層(ceng)高(gao)(gao)純度(du)石(shi)英(ying)砂(sha)使其形成(cheng)致(zhi)密層(ceng)，其致(zhi)密層(ceng)能(neng)阻止單晶硅高(gao)(gao)溫拉(la)制過程中硅與石(shi)英(ying)坩堝反應提高(gao)(gao)成(cheng)晶率(lv)。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純石(shi)英(ying)砂(sha)→高純石(shi)墨模具→真空裝料(liao)成型→真空電(dian)弧熔制(zhi)→自然冷卻脫模→石(shi)英(ying)坩(gan)(gan)堝(guo)初(chu)步檢(jian)測→冷加工噴(pen)砂(sha)、切斷、倒角→石(shi)英(ying)坩(gan)(gan)堝(guo)二次檢(jian)測→超(chao)凈(jing)清洗、超(chao)聲、高壓噴(pen)淋、自動烘干→石(shi)英(ying)坩(gan)(gan)堝(guo)三(san)次檢(jian)驗(yan)→真空包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英(ying)坩堝可在1450度(du)以下使用，分透明(ming)和不(bu)透明(ming)兩種。用電弧法制(zhi)的半透明(ming)石(shi)英(ying)坩堝是(shi)拉制(zhi)大直徑單晶硅(gui)，發展大規模集(ji)成(cheng)電路(lu)必不(bu)可少的基礎材料(liao)。

當今，世界半導體(ti)工業(ye)發達已用(yong)此坩(gan)堝取代了(le)小的(de)透明石英坩(gan)堝。具有(you)高純度(du)、耐(nai)溫性強、尺寸大精度(du)高、保溫性好(hao)、節(jie)約能源(yuan)、質量穩定等優點(dian)。

　　2、不(bu)能和HF接觸(chu)，高溫時，較容(rong)易(yi)易(yi)和苛性堿及堿金屬的碳酸(suan)鹽作用。

　　3、石(shi)英坩堝適(shi)于用K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑(ji)熔(rong)融樣(yang)(yang)品(pin)(pin)和用Na2S207（先在(zai)212度烘干）作熔(rong)劑(ji)處理(li)樣(yang)(yang)品(pin)(pin)。

　　4、石英(ying)質脆，易破，使用時要(yao)注(zhu)意。

　　5、除HF外，普(pu)通稀無(wu)機酸可(ke)用作清洗液。