目前石英坩堝生產涂(tu)層(ceng)技術已被大多數(shu)廠家使用就(jiu)是(shi)在普(pu)通石英砂溶(rong)制的(de)坩堝表面涂(tu)上一層(ceng)高純(chun)度(du)石英砂使其(qi)形成致密(mi)層(ceng)，其(qi)致密(mi)層(ceng)能阻止單晶硅(gui)高溫拉制過程中硅(gui)與石英坩堝反應提(ti)高成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純石英(ying)砂→高純石墨模具→真(zhen)空(kong)裝料成(cheng)型→真(zhen)空(kong)電弧熔(rong)制→自然冷(leng)卻脫(tuo)模→石英(ying)坩堝(guo)初步檢(jian)測(ce)→冷(leng)加(jia)工噴砂、切斷(duan)、倒角→石英(ying)坩堝(guo)二次檢(jian)測(ce)→超凈(jing)清洗、超聲、高壓噴淋、自動烘(hong)干→石英(ying)坩堝(guo)三次檢(jian)驗→真(zhen)空(kong)包裝→成(cheng)品入(ru)庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英坩(gan)堝可在1450度(du)以下使用，分(fen)透(tou)明和不透(tou)明兩種(zhong)。用電弧法(fa)制的半透(tou)明石(shi)英坩(gan)堝是拉制大直徑單晶硅(gui)，發展大規(gui)模集成電路必不可少(shao)的基礎材料。

當今，世界(jie)半(ban)導體(ti)工業發(fa)達(da)已用(yong)此坩(gan)堝取代了小的透明石英坩(gan)堝。具(ju)有高純度、耐(nai)溫性(xing)強、尺寸大精度高、保(bao)溫性(xing)好、節約能源、質量穩定(ding)等優點。

　　2、不能和HF接觸(chu)，高溫時，較(jiao)容易易和苛性堿(jian)(jian)及堿(jian)(jian)金屬的碳酸鹽(yan)作用。

　　3、石(shi)英(ying)坩堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融樣(yang)品和用(yong)Na2S207（先在212度烘干）作熔劑處理(li)樣(yang)品。

　　4、石英質脆(cui)，易破，使用(yong)時要注意。

　　5、除HF外，普通(tong)稀無機酸可用作清洗液。