目前石英坩堝生(sheng)產涂層技術已被大多數(shu)廠家使(shi)用就是(shi)在普通石英砂溶制(zhi)的坩堝表面涂上一(yi)層高(gao)純度石英砂使(shi)其形成致(zhi)密層，其致(zhi)密層能阻止(zhi)單晶硅高(gao)溫拉制(zhi)過程中硅與石英坩堝反應提高(gao)成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)純石(shi)英(ying)砂→高(gao)純石(shi)墨模具→真(zhen)空(kong)裝料(liao)成型(xing)→真(zhen)空(kong)電(dian)弧熔制→自然(ran)冷(leng)卻(que)脫模→石(shi)英(ying)坩堝(guo)初步檢(jian)測(ce)→冷(leng)加工噴砂、切(qie)斷、倒角(jiao)→石(shi)英(ying)坩堝(guo)二次(ci)檢(jian)測(ce)→超凈清(qing)洗(xi)、超聲、高(gao)壓(ya)噴淋、自動烘干→石(shi)英(ying)坩堝(guo)三(san)次(ci)檢(jian)驗(yan)→真(zhen)空(kong)包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝可在1450度以下使用，分透明和不(bu)透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單(dan)晶(jing)硅，發展大規模集成電路(lu)必不(bu)可少的基礎材(cai)料。

當今(jin)，世(shi)界半導體工業發達(da)已用此坩(gan)堝(guo)取代了小的透明石英(ying)坩(gan)堝(guo)。具有高(gao)純度、耐溫性強、尺寸大精度高(gao)、保溫性好(hao)、節約能源、質(zhi)量穩定等優點。

　　2、不能和HF接觸(chu)，高溫(wen)時(shi)，較容易易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。

　　3、石英坩堝適(shi)于(yu)用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑熔(rong)融(rong)樣(yang)(yang)品(pin)和用(yong)Na2S207（先在212度烘干）作熔(rong)劑處(chu)理樣(yang)(yang)品(pin)。

　　4、石英質脆，易破(po)，使用時要注意。

　　5、除(chu)HF外(wai)，普(pu)通稀無機酸可用作清洗液(ye)。