目前石(shi)英(ying)(ying)坩堝生(sheng)產涂層技術已被大(da)多數廠家使用就是在普通石(shi)英(ying)(ying)砂溶制(zhi)(zhi)的坩堝表面(mian)涂上一(yi)層高(gao)純度石(shi)英(ying)(ying)砂使其形成(cheng)致密層，其致密層能阻止單晶(jing)硅高(gao)溫(wen)拉制(zhi)(zhi)過程中(zhong)硅與石(shi)英(ying)(ying)坩堝反應提高(gao)成(cheng)晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)純石(shi)(shi)英(ying)砂→高(gao)純石(shi)(shi)墨模具→真空裝料成型(xing)→真空電(dian)弧(hu)熔制→自(zi)然(ran)冷卻脫模→石(shi)(shi)英(ying)坩堝初步檢(jian)測→冷加工(gong)噴(pen)砂、切斷、倒角(jiao)→石(shi)(shi)英(ying)坩堝二次檢(jian)測→超(chao)凈清洗、超(chao)聲、高(gao)壓噴(pen)淋、自(zi)動(dong)烘(hong)干→石(shi)(shi)英(ying)坩堝三次檢(jian)驗→真空包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝可在1450度以下使用，分透明(ming)和不(bu)透明(ming)兩(liang)種。用電弧法制的半透明(ming)石英坩堝是(shi)拉制大直徑單晶硅，發展大規模(mo)集成電路(lu)必不(bu)可少的基礎材料。

當今，世界半導(dao)體工業發達已用(yong)此(ci)坩(gan)堝取(qu)代了(le)小的(de)透明石英坩(gan)堝。具(ju)有高(gao)純度、耐溫性(xing)強、尺寸大精度高(gao)、保溫性(xing)好、節約能(neng)源、質量(liang)穩定等優點。

　　2、不能(neng)和(he)HF接觸，高(gao)溫時，較(jiao)容易易和(he)苛性堿及堿金屬的碳酸(suan)鹽(yan)作用。

　　3、石英坩(gan)堝(guo)適于(yu)用(yong)(yong)K2S2O7,KHSO4作熔劑(ji)熔融樣品和用(yong)(yong)Na2S207（先在(zai)212度烘(hong)干）作熔劑(ji)處理樣品。

　　4、石(shi)英質脆，易破，使用時要注(zhu)意。

　　5、除HF外(wai)，普通稀無機酸可用作清洗液(ye)。