目前(qian)石英坩(gan)堝(guo)(guo)生產(chan)涂層(ceng)技術(shu)已被(bei)大多(duo)數(shu)廠家使(shi)用就是在普通石英砂溶制(zhi)的坩(gan)堝(guo)(guo)表(biao)面涂上(shang)一層(ceng)高(gao)(gao)純度石英砂使(shi)其形成致密(mi)層(ceng)，其致密(mi)層(ceng)能阻止單晶(jing)(jing)硅高(gao)(gao)溫(wen)拉制(zhi)過程中(zhong)硅與石英坩(gan)堝(guo)(guo)反(fan)應提高(gao)(gao)成晶(jing)(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純石(shi)英(ying)(ying)砂→高純石(shi)墨(mo)模具→真空(kong)裝料成(cheng)型→真空(kong)電弧熔制→自然(ran)冷(leng)卻脫(tuo)模→石(shi)英(ying)(ying)坩堝初步(bu)檢(jian)測→冷(leng)加工噴(pen)(pen)砂、切斷、倒角→石(shi)英(ying)(ying)坩堝二次檢(jian)測→超(chao)凈清洗、超(chao)聲、高壓噴(pen)(pen)淋(lin)、自動烘干→石(shi)英(ying)(ying)坩堝三次檢(jian)驗(yan)→真空(kong)包裝→成(cheng)品(pin)入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英坩堝可(ke)在1450度(du)以下使用，分透明(ming)和不透明(ming)兩種。用電(dian)(dian)弧(hu)法制的半透明(ming)石(shi)英坩堝是(shi)拉制大直(zhi)徑單晶(jing)硅，發展大規模集成(cheng)電(dian)(dian)路必不可(ke)少的基(ji)礎材料。

當今，世界半導(dao)體工(gong)業發達已用此坩堝(guo)取代了小的透明石(shi)英(ying)坩堝(guo)。具有高純度、耐溫(wen)性強、尺寸(cun)大精度高、保溫(wen)性好(hao)、節約能(neng)源、質量穩定等優點(dian)。

　　2、不能和HF接觸，高溫(wen)時(shi)，較容易易和苛性堿(jian)及(ji)堿(jian)金屬的碳酸鹽(yan)作用。

　　3、石英(ying)坩堝適于(yu)用K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207（先(xian)在(zai)212度烘干）作熔劑處理樣品。

　　4、石英質脆，易破，使用時要注意。

　　5、除HF外，普通稀無機(ji)酸可用作清(qing)洗液。