目(mu)前石英(ying)坩(gan)堝生產涂層技術已被大多數廠(chang)家使用(yong)就是(shi)在普通石英(ying)砂溶制的(de)坩(gan)堝表(biao)面涂上一(yi)層高純(chun)度石英(ying)砂使其形(xing)成致(zhi)密層，其致(zhi)密層能(neng)阻止單晶硅(gui)高溫拉制過程(cheng)中硅(gui)與石英(ying)坩(gan)堝反應提高成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)(gao)純(chun)(chun)石(shi)(shi)英(ying)砂→高(gao)(gao)純(chun)(chun)石(shi)(shi)墨(mo)模具→真空(kong)裝料成型→真空(kong)電弧(hu)熔制→自然冷卻(que)脫模→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝初步檢測(ce)→冷加工噴砂、切斷、倒(dao)角→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝二次(ci)檢測(ce)→超凈清洗、超聲、高(gao)(gao)壓噴淋(lin)、自動(dong)烘干→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝三次(ci)檢驗→真空(kong)包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩(gan)堝(guo)可在(zai)1450度以下使用，分透(tou)明(ming)和(he)不透(tou)明(ming)兩種。用電(dian)弧法(fa)制的半透(tou)明(ming)石英坩(gan)堝(guo)是拉制大直徑單(dan)晶硅，發展(zhan)大規模集成電(dian)路必不可少的基礎材料。

當今，世界半導(dao)體(ti)工業發達已用此(ci)坩(gan)堝取代了小(xiao)的透(tou)明石英坩(gan)堝。具有高(gao)純度、耐溫性強、尺(chi)寸大精度高(gao)、保溫性好、節約能(neng)源、質量穩(wen)定等優(you)點。

　　2、不能和HF接觸，高溫(wen)時(shi)，較容易易和苛性堿及堿金屬的(de)碳酸鹽(yan)作用(yong)。

　　3、石英坩堝(guo)適于(yu)用K2S2O7,KHSO4作熔(rong)(rong)劑熔(rong)(rong)融(rong)樣(yang)品和用Na2S207（先在212度(du)烘干）作熔(rong)(rong)劑處(chu)理(li)樣(yang)品。

　　4、石(shi)英(ying)質脆(cui)，易破，使用(yong)時要注意。

　　5、除(chu)HF外，普通稀(xi)無機酸(suan)可用(yong)作清洗(xi)液。