目前石(shi)英坩堝(guo)生產(chan)涂層(ceng)技術已被大(da)多數(shu)廠(chang)家使用(yong)就是在普通石(shi)英砂(sha)溶制的坩堝(guo)表面涂上(shang)一(yi)層(ceng)高(gao)純度石(shi)英砂(sha)使其形成致密層(ceng)，其致密層(ceng)能阻止單晶(jing)硅高(gao)溫拉制過(guo)程中硅與石(shi)英坩堝(guo)反(fan)應提高(gao)成晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)(gao)純(chun)石(shi)(shi)英(ying)砂→高(gao)(gao)純(chun)石(shi)(shi)墨模(mo)具(ju)→真(zhen)空裝料成型→真(zhen)空電弧熔制→自然冷卻脫模(mo)→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)初步檢(jian)測→冷加(jia)工噴砂、切斷、倒(dao)角→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)二次檢(jian)測→超凈清洗、超聲、高(gao)(gao)壓噴淋、自動烘干→石(shi)(shi)英(ying)坩(gan)堝(guo)三次檢(jian)驗→真(zhen)空包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩(gan)堝可在(zai)1450度(du)以下使用(yong)，分透(tou)明(ming)和不透(tou)明(ming)兩種(zhong)。用(yong)電(dian)弧法(fa)制的半透(tou)明(ming)石英坩(gan)堝是拉制大直徑單(dan)晶硅，發展大規模集成電(dian)路必不可少的基礎材料。

當今，世界(jie)半導(dao)體(ti)工業(ye)發達(da)已用(yong)此坩堝取(qu)代(dai)了(le)小的透明石英坩堝。具有高純度、耐(nai)溫性強、尺寸(cun)大精(jing)度高、保溫性好、節約能源、質量穩定等優點。

　　2、不(bu)能(neng)和(he)HF接觸，高溫時，較容易(yi)易(yi)和(he)苛性(xing)堿(jian)及堿(jian)金屬的碳(tan)酸鹽作用。

　　3、石(shi)英坩(gan)堝(guo)適于用K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融樣(yang)品和用Na2S207（先在212度烘干）作熔劑處理樣(yang)品。

　　4、石英(ying)質脆，易破，使用時要注意。

　　5、除HF外，普通稀(xi)無(wu)機酸可用作清(qing)洗液(ye)。