目前石英(ying)坩堝生產涂層(ceng)(ceng)(ceng)技術已被大多(duo)數廠家使用就是在普通石英(ying)砂溶制(zhi)的坩堝表(biao)面涂上一層(ceng)(ceng)(ceng)高純度石英(ying)砂使其形成致密層(ceng)(ceng)(ceng)，其致密層(ceng)(ceng)(ceng)能(neng)阻止單晶硅高溫拉制(zhi)過程(cheng)中(zhong)硅與石英(ying)坩堝反應提(ti)高成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤(you)尼明高純(chun)石英(ying)砂→高純(chun)石墨模具→真空(kong)裝(zhuang)(zhuang)料成型→真空(kong)電弧熔制→自然冷卻脫模→石英(ying)坩堝初(chu)步(bu)檢(jian)(jian)測(ce)(ce)→冷加工噴(pen)砂、切斷、倒角→石英(ying)坩堝二次檢(jian)(jian)測(ce)(ce)→超凈清洗、超聲、高壓噴(pen)淋、自動烘干→石英(ying)坩堝三次檢(jian)(jian)驗→真空(kong)包(bao)裝(zhuang)(zhuang)→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩(gan)堝可在1450度以下使(shi)用，分(fen)透(tou)明和不透(tou)明兩種。用電弧法制的(de)半(ban)透(tou)明石英坩(gan)堝是拉制大(da)(da)直(zhi)徑(jing)單晶硅，發展大(da)(da)規(gui)模集成電路必不可少的(de)基礎材料。

當今，世界半導體工業發達(da)已用此(ci)坩堝取代了小(xiao)的(de)透明(ming)石英坩堝。具有高(gao)純度、耐溫性(xing)強、尺寸大精度高(gao)、保溫性(xing)好、節約能源、質量穩定等優點。

　　2、不(bu)能和(he)HF接(jie)觸，高溫(wen)時，較(jiao)容(rong)易易和(he)苛性堿(jian)及(ji)堿(jian)金屬的碳酸鹽作(zuo)用。

　　3、石英坩堝適于用K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融樣(yang)品(pin)和(he)用Na2S207（先(xian)在212度烘干）作熔劑處(chu)理樣(yang)品(pin)。

　　4、石英質脆，易破，使用(yong)時(shi)要注意。

　　5、除HF外，普通稀無(wu)機酸可用作(zuo)清洗液。