目前石(shi)英(ying)坩堝生產(chan)涂層(ceng)(ceng)技術已被大多數(shu)廠(chang)家(jia)使用(yong)就(jiu)是在普通石(shi)英(ying)砂溶制的坩堝表面涂上一層(ceng)(ceng)高(gao)純度石(shi)英(ying)砂使其(qi)(qi)形成致密層(ceng)(ceng)，其(qi)(qi)致密層(ceng)(ceng)能阻止單晶硅高(gao)溫拉制過程(cheng)中硅與石(shi)英(ying)坩堝反應提高(gao)成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼(ni)明高純(chun)石英(ying)(ying)砂→高純(chun)石墨(mo)模具→真空裝料成型→真空電(dian)弧熔制→自然(ran)冷卻脫(tuo)模→石英(ying)(ying)坩堝(guo)(guo)初步檢(jian)測→冷加工噴(pen)砂、切(qie)斷、倒角→石英(ying)(ying)坩堝(guo)(guo)二次(ci)檢(jian)測→超(chao)(chao)凈清洗、超(chao)(chao)聲、高壓(ya)噴(pen)淋、自動烘(hong)干→石英(ying)(ying)坩堝(guo)(guo)三次(ci)檢(jian)驗(yan)→真空包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝(guo)可在1450度以(yi)下(xia)使用(yong)，分透(tou)明和不透(tou)明兩種。用(yong)電弧(hu)法制的半透(tou)明石英坩堝(guo)是拉(la)制大直徑單晶硅，發展大規模集成電路必不可少的基礎(chu)材(cai)料。

當(dang)今，世界半導體工(gong)業發(fa)達已用(yong)此(ci)坩堝取代(dai)了(le)小的透明石英坩堝。具有高純度、耐溫性(xing)強、尺寸大精度高、保溫性(xing)好、節約(yue)能源(yuan)、質量穩定等(deng)優點。

　　2、不能(neng)和(he)(he)HF接(jie)觸，高溫時，較容易易和(he)(he)苛性堿及堿金屬的碳(tan)酸鹽(yan)作用。

　　3、石英坩堝適于用K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融(rong)樣品和用Na2S207（先在(zai)212度烘干）作熔劑處理樣品。

　　4、石(shi)英質脆，易破，使用(yong)時要注意(yi)。

　　5、除HF外，普通(tong)稀無機(ji)酸可(ke)用作清洗液。