目(mu)前石(shi)英(ying)坩堝生產涂層技術(shu)已被大多數廠家使(shi)用就是在普通石(shi)英(ying)砂溶制的坩堝表面涂上一層高純(chun)度石(shi)英(ying)砂使(shi)其形(xing)成致(zhi)密層，其致(zhi)密層能阻止單(dan)晶(jing)硅高溫拉制過程(cheng)中硅與(yu)石(shi)英(ying)坩堝反應提高成晶(jing)率(lv)。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)純石英(ying)砂(sha)→高(gao)純石墨模具→真(zhen)空(kong)裝(zhuang)料(liao)成型(xing)→真(zhen)空(kong)電(dian)弧熔制→自然冷卻(que)脫模→石英(ying)坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)初步檢(jian)測→冷加工(gong)噴(pen)砂(sha)、切(qie)斷、倒角→石英(ying)坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)二次檢(jian)測→超凈清洗(xi)、超聲、高(gao)壓噴(pen)淋、自動烘(hong)干(gan)→石英(ying)坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)三次檢(jian)驗→真(zhen)空(kong)包裝(zhuang)→成品入(ru)庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英坩堝可(ke)在1450度以下使用(yong)，分透(tou)明(ming)和(he)不透(tou)明(ming)兩種。用(yong)電弧法(fa)制(zhi)的半透(tou)明(ming)石(shi)英坩堝是拉制(zhi)大直徑單晶硅，發(fa)展大規模集成電路必不可(ke)少的基礎材料。

當今，世界半(ban)導(dao)體工(gong)業發達已用此坩堝取(qu)代(dai)了小的透(tou)明(ming)石英坩堝。具有(you)高純(chun)度、耐(nai)溫性(xing)強、尺(chi)寸大(da)精度高、保溫性(xing)好、節約能源(yuan)、質(zhi)量穩定等優點(dian)。

　　2、不能和(he)(he)HF接(jie)觸，高(gao)溫時，較容易易和(he)(he)苛性堿及(ji)堿金(jin)屬的碳(tan)酸鹽作用。

　　3、石英坩堝(guo)適于用K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑熔(rong)融樣品(pin)(pin)和用Na2S207（先(xian)在(zai)212度烘干）作熔(rong)劑處理樣品(pin)(pin)。

　　4、石(shi)英(ying)質脆，易破，使用時要(yao)注意。

　　5、除HF外，普通(tong)稀(xi)無機酸可用作清(qing)洗液。