目前石(shi)英坩(gan)堝生(sheng)產涂層(ceng)技術(shu)已被大多數廠(chang)家使用就是在普通石(shi)英砂溶制的坩(gan)堝表面涂上一(yi)層(ceng)高(gao)純度石(shi)英砂使其(qi)形成致密層(ceng)，其(qi)致密層(ceng)能阻止(zhi)單晶(jing)硅(gui)高(gao)溫拉制過程中硅(gui)與石(shi)英坩(gan)堝反應提高(gao)成晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)(gao)純石英(ying)砂→高(gao)(gao)純石墨模具(ju)→真(zhen)空裝(zhuang)(zhuang)料成型→真(zhen)空電弧(hu)熔(rong)制→自(zi)然冷卻脫模→石英(ying)坩堝初步檢測(ce)→冷加工(gong)噴(pen)砂、切斷、倒角→石英(ying)坩堝二次檢測(ce)→超凈(jing)清洗、超聲(sheng)、高(gao)(gao)壓(ya)噴(pen)淋、自(zi)動烘(hong)干→石英(ying)坩堝三(san)次檢驗→真(zhen)空包裝(zhuang)(zhuang)→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝可(ke)(ke)在1450度(du)以(yi)下使用(yong)，分透(tou)明和不透(tou)明兩種。用(yong)電弧法(fa)制(zhi)的半透(tou)明石英坩堝是拉制(zhi)大直徑單晶硅(gui)，發展大規模集成(cheng)電路必不可(ke)(ke)少的基礎材(cai)料。

當今，世界半導體工(gong)業發(fa)達已用此坩堝取代了小的透(tou)明石英(ying)坩堝。具有(you)高純度、耐溫性強、尺寸大(da)精度高、保溫性好(hao)、節約能源、質量穩定(ding)等優(you)點。

　　2、不能和HF接觸，高(gao)溫時，較容易(yi)易(yi)和苛性堿及堿金(jin)屬(shu)的碳酸鹽作用。

　　3、石(shi)英坩堝適(shi)于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑熔(rong)融樣(yang)品(pin)和(he)用(yong)Na2S207（先在212度烘干）作熔(rong)劑處理樣(yang)品(pin)。

　　4、石英質脆(cui)，易破，使(shi)用時要注意。

　　5、除(chu)HF外，普通(tong)稀無機酸可(ke)用作(zuo)清洗液。