目前石(shi)英坩(gan)(gan)堝生產涂層(ceng)技術(shu)已被(bei)大多(duo)數廠家(jia)使用就(jiu)是在普通石(shi)英砂溶制(zhi)的(de)坩(gan)(gan)堝表面涂上一層(ceng)高純度(du)石(shi)英砂使其(qi)形成致密層(ceng)，其(qi)致密層(ceng)能阻止單晶(jing)硅高溫(wen)拉制(zhi)過(guo)程中硅與(yu)石(shi)英坩(gan)(gan)堝反應(ying)提高成晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純石英砂→高純石墨模(mo)具→真空(kong)裝料成(cheng)型→真空(kong)電(dian)弧熔制→自(zi)然冷卻(que)脫(tuo)模(mo)→石英坩(gan)堝初步檢(jian)測→冷加工噴砂、切斷、倒(dao)角→石英坩(gan)堝二次檢(jian)測→超凈清洗、超聲、高壓噴淋、自(zi)動(dong)烘干→石英坩(gan)堝三次檢(jian)驗(yan)→真空(kong)包裝→成(cheng)品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝可(ke)(ke)在1450度(du)以下使用(yong)，分(fen)透明和不透明兩(liang)種。用(yong)電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fa)展(zhan)大規模集成電路(lu)必(bi)不可(ke)(ke)少的基礎(chu)材料(liao)。

當(dang)今，世界半導(dao)體工(gong)業發達(da)已(yi)用此坩堝取代了小的透明石(shi)英坩堝。具有高純度、耐溫性強(qiang)、尺寸大精度高、保(bao)溫性好(hao)、節約能源、質量穩定等(deng)優(you)點。

　　2、不(bu)能和HF接觸，高溫時，較容易易和苛(ke)性堿及堿金屬(shu)的碳酸鹽(yan)作用。

　　3、石英坩堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔劑熔融樣(yang)品(pin)和用(yong)Na2S207（先在212度烘干(gan)）作(zuo)熔劑處理樣(yang)品(pin)。

　　4、石英(ying)質(zhi)脆，易破，使(shi)用時要注(zhu)意(yi)。

　　5、除HF外(wai)，普通稀無機酸可(ke)用作清洗液(ye)。