目(mu)前(qian)石英(ying)坩(gan)(gan)堝生(sheng)產涂(tu)層(ceng)技術已(yi)被大多數廠家使用(yong)就是在普(pu)通(tong)石英(ying)砂(sha)溶制的坩(gan)(gan)堝表(biao)面(mian)涂(tu)上一(yi)層(ceng)高純(chun)度石英(ying)砂(sha)使其形成致(zhi)密層(ceng)，其致(zhi)密層(ceng)能阻(zu)止單晶(jing)硅高溫拉制過程中(zhong)硅與(yu)石英(ying)坩(gan)(gan)堝反應提高成晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純石(shi)(shi)英(ying)砂→高純石(shi)(shi)墨模具(ju)→真(zhen)空裝料成型→真(zhen)空電弧熔制→自(zi)然冷(leng)卻脫模→石(shi)(shi)英(ying)坩堝(guo)(guo)初步檢測→冷(leng)加(jia)工噴砂、切斷(duan)、倒角(jiao)→石(shi)(shi)英(ying)坩堝(guo)(guo)二(er)次(ci)檢測→超凈清洗、超聲、高壓噴淋、自(zi)動烘(hong)干→石(shi)(shi)英(ying)坩堝(guo)(guo)三次(ci)檢驗(yan)→真(zhen)空包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝可在(zai)1450度以(yi)下使用，分透(tou)明(ming)和不透(tou)明(ming)兩(liang)種。用電(dian)(dian)弧法制(zhi)的半透(tou)明(ming)石英坩堝是(shi)拉制(zhi)大(da)直徑(jing)單(dan)晶硅，發展大(da)規模(mo)集成電(dian)(dian)路必不可少的基礎材料。

當(dang)今，世界(jie)半導體工業發達(da)已用此坩堝取(qu)代了(le)小的透明石英坩堝。具有高純度、耐溫(wen)性(xing)強(qiang)、尺寸大精度高、保溫(wen)性(xing)好、節約能源(yuan)、質量穩(wen)定等優點。

　　2、不能和(he)HF接觸，高溫(wen)時(shi)，較容易(yi)易(yi)和(he)苛性(xing)堿(jian)及堿(jian)金屬(shu)的碳酸鹽作用。

　　3、石(shi)英坩(gan)堝適(shi)于(yu)用(yong)(yong)K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔劑(ji)熔融樣(yang)品和用(yong)(yong)Na2S207（先在212度烘(hong)干）作(zuo)熔劑(ji)處理樣(yang)品。

　　4、石英質脆，易破，使用時要注意。

　　5、除HF外(wai)，普(pu)通(tong)稀無機酸(suan)可用作清(qing)洗液。