目前石(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝生產(chan)涂層(ceng)技術已被(bei)大多數(shu)廠家使用就是在普通石(shi)英(ying)(ying)砂(sha)溶(rong)制的(de)坩(gan)堝表面涂上一層(ceng)高純度石(shi)英(ying)(ying)砂(sha)使其形成致密層(ceng)，其致密層(ceng)能阻止單(dan)晶硅高溫拉制過(guo)程中(zhong)硅與石(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝反應(ying)提(ti)高成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤(you)尼明高(gao)純(chun)石英砂→高(gao)純(chun)石墨模具→真空裝(zhuang)料成型(xing)→真空電弧熔制→自(zi)然冷(leng)卻脫模→石英坩(gan)堝初步檢(jian)測→冷(leng)加(jia)工噴砂、切斷、倒角(jiao)→石英坩(gan)堝二(er)次檢(jian)測→超(chao)凈清洗、超(chao)聲、高(gao)壓(ya)噴淋、自(zi)動烘干→石英坩(gan)堝三(san)次檢(jian)驗→真空包裝(zhuang)→成品入(ru)庫。

      石英坩堝用途

1、石英(ying)(ying)坩堝可在1450度以下使用(yong)，分透(tou)明和不(bu)透(tou)明兩種。用(yong)電(dian)弧(hu)法制的(de)(de)半透(tou)明石英(ying)(ying)坩堝是拉(la)制大直徑單晶硅，發展(zhan)大規模集成電(dian)路必不(bu)可少(shao)的(de)(de)基礎材料。

當今，世界半導(dao)體工業發達(da)已用此坩(gan)堝(guo)(guo)取代了小的透明(ming)石英坩(gan)堝(guo)(guo)。具有高(gao)純(chun)度(du)、耐溫(wen)性強、尺寸大精度(du)高(gao)、保溫(wen)性好(hao)、節(jie)約能(neng)源、質(zhi)量穩定等(deng)優點。

　　2、不能和HF接觸，高溫時(shi)，較容易易和苛(ke)性(xing)堿及堿金屬的(de)碳(tan)酸鹽作(zuo)用。

　　3、石(shi)英坩堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑熔(rong)融(rong)樣品(pin)和用(yong)Na2S207（先在212度烘干）作熔(rong)劑處理樣品(pin)。

　　4、石英(ying)質脆，易(yi)破，使用時要注意。

　　5、除HF外，普(pu)通稀無機酸可用作清洗液。