目前石英(ying)坩(gan)(gan)堝(guo)生產涂層(ceng)(ceng)(ceng)技術(shu)已被大多數廠(chang)家使(shi)用就是(shi)在普通石英(ying)砂溶制的坩(gan)(gan)堝(guo)表面涂上一層(ceng)(ceng)(ceng)高(gao)純度石英(ying)砂使(shi)其形成致密層(ceng)(ceng)(ceng)，其致密層(ceng)(ceng)(ceng)能(neng)阻止單(dan)晶硅高(gao)溫拉制過程中硅與石英(ying)坩(gan)(gan)堝(guo)反應提高(gao)成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明(ming)高純(chun)石英砂(sha)→高純(chun)石墨模具→真(zhen)空(kong)裝料(liao)成(cheng)型→真(zhen)空(kong)電弧熔制(zhi)→自(zi)然冷(leng)卻脫(tuo)模→石英坩堝(guo)初(chu)步檢測→冷(leng)加(jia)工(gong)噴(pen)砂(sha)、切斷、倒角→石英坩堝(guo)二次檢測→超凈清洗(xi)、超聲、高壓噴(pen)淋、自(zi)動烘干→石英坩堝(guo)三次檢驗→真(zhen)空(kong)包裝→成(cheng)品入(ru)庫。

      石英坩堝用途

1、石英(ying)(ying)坩堝可在(zai)1450度以(yi)下使用(yong)，分透(tou)明(ming)和(he)不(bu)透(tou)明(ming)兩種。用(yong)電(dian)弧(hu)法制(zhi)的半透(tou)明(ming)石英(ying)(ying)坩堝是(shi)拉制(zhi)大(da)直徑單晶硅，發展大(da)規模集成(cheng)電(dian)路必不(bu)可少(shao)的基礎材(cai)料。

當(dang)今(jin)，世界(jie)半導(dao)體工(gong)業發達已用此坩(gan)堝取(qu)代了小的透明(ming)石英坩(gan)堝。具(ju)有高純(chun)度、耐溫(wen)性強、尺寸(cun)大精度高、保(bao)溫(wen)性好、節(jie)約能(neng)源、質量穩定等優(you)點。

　　2、不能和HF接觸，高溫時，較容易(yi)易(yi)和苛性堿(jian)及堿(jian)金(jin)屬的碳酸(suan)鹽作用(yong)。

　　3、石英(ying)坩堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融樣(yang)品(pin)和用(yong)Na2S207（先在212度烘干）作熔劑處理樣(yang)品(pin)。

　　4、石英質脆(cui)，易破，使用時(shi)要注意。

　　5、除(chu)HF外，普通稀無機酸可(ke)用作清洗(xi)液。