目前石英坩堝生產涂(tu)層(ceng)技(ji)術已被大(da)多數廠家使(shi)用(yong)就是(shi)在普通石英砂溶制(zhi)的坩堝表面涂(tu)上一層(ceng)高(gao)(gao)(gao)純度(du)石英砂使(shi)其形成(cheng)致(zhi)密層(ceng)，其致(zhi)密層(ceng)能阻止單(dan)晶(jing)硅(gui)(gui)高(gao)(gao)(gao)溫拉制(zhi)過程(cheng)中(zhong)硅(gui)(gui)與石英坩堝反應提高(gao)(gao)(gao)成(cheng)晶(jing)率(lv)。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純石(shi)(shi)英砂→高純石(shi)(shi)墨模具→真(zhen)空裝(zhuang)料成型→真(zhen)空電弧熔制→自然冷(leng)卻(que)脫模→石(shi)(shi)英坩(gan)堝(guo)初(chu)步檢測→冷(leng)加(jia)工噴砂、切斷(duan)、倒角(jiao)→石(shi)(shi)英坩(gan)堝(guo)二次檢測→超(chao)凈清洗、超(chao)聲、高壓噴淋、自動烘干→石(shi)(shi)英坩(gan)堝(guo)三次檢驗→真(zhen)空包裝(zhuang)→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石英(ying)坩(gan)(gan)堝(guo)可在1450度以下(xia)使用，分透(tou)明和(he)不(bu)透(tou)明兩(liang)種。用電弧法(fa)制的半透(tou)明石英(ying)坩(gan)(gan)堝(guo)是拉(la)制大直徑單晶(jing)硅(gui)，發展大規模集成電路必不(bu)可少的基礎材料。

當今，世(shi)界半導(dao)體工(gong)業發達已用此坩堝取(qu)代了小的(de)透明石英(ying)坩堝。具(ju)有(you)高純度(du)(du)、耐溫(wen)性強、尺寸大(da)精度(du)(du)高、保(bao)溫(wen)性好、節(jie)約(yue)能源、質量穩定等優點。

　　2、不能和(he)HF接(jie)觸，高溫時，較容易(yi)易(yi)和(he)苛(ke)性堿及堿金屬(shu)的碳酸鹽作用。

　　3、石(shi)英坩堝適于用K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑(ji)熔(rong)融樣品(pin)和用Na2S207（先在(zai)212度烘干）作熔(rong)劑(ji)處理樣品(pin)。

　　4、石英質脆，易破(po)，使用時要注意。

　　5、除HF外，普通(tong)稀無(wu)機酸可用作清洗液。