目前石英(ying)坩(gan)堝生產涂(tu)層技術已被大(da)多數廠家使(shi)用就是在普通石英(ying)砂(sha)溶(rong)制的坩(gan)堝表面(mian)涂(tu)上一層高純度石英(ying)砂(sha)使(shi)其(qi)形(xing)成致密(mi)層，其(qi)致密(mi)層能阻(zu)止單(dan)晶(jing)硅(gui)高溫拉制過程中硅(gui)與石英(ying)坩(gan)堝反應提(ti)高成晶(jing)率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純石英(ying)砂→高純石墨(mo)模具→真空(kong)(kong)裝料成(cheng)型→真空(kong)(kong)電弧熔制(zhi)→自(zi)然(ran)冷(leng)(leng)卻(que)脫模→石英(ying)坩堝(guo)初(chu)步檢測(ce)→冷(leng)(leng)加工(gong)噴(pen)砂、切斷(duan)、倒(dao)角(jiao)→石英(ying)坩堝(guo)二(er)次檢測(ce)→超凈清洗、超聲、高壓(ya)噴(pen)淋(lin)、自(zi)動(dong)烘干(gan)→石英(ying)坩堝(guo)三次檢驗→真空(kong)(kong)包(bao)裝→成(cheng)品入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英(ying)(ying)坩堝可在1450度以下(xia)使(shi)用(yong)，分透明(ming)和不透明(ming)兩種(zhong)。用(yong)電(dian)(dian)弧法制的半透明(ming)石(shi)英(ying)(ying)坩堝是(shi)拉(la)制大(da)直徑單晶硅，發展(zhan)大(da)規模集成電(dian)(dian)路必不可少的基(ji)礎材料(liao)。

當(dang)今，世(shi)界(jie)半導(dao)體工業發達已用此坩堝(guo)取代了小(xiao)的透明石英坩堝(guo)。具有高(gao)純度、耐溫(wen)性強、尺寸(cun)大精度高(gao)、保溫(wen)性好、節約能(neng)源、質量穩定等優(you)點(dian)。

　　2、不(bu)能和(he)HF接觸，高溫時，較容易(yi)易(yi)和(he)苛性堿(jian)及(ji)堿(jian)金屬(shu)的(de)碳酸(suan)鹽作用。

　　3、石英(ying)坩堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔(rong)(rong)劑熔(rong)(rong)融樣品和(he)用(yong)Na2S207（先在212度(du)烘干(gan)）作熔(rong)(rong)劑處(chu)理樣品。

　　4、石(shi)英質脆，易(yi)破，使用時要注意。

　　5、除HF外(wai)，普通(tong)稀無(wu)機酸可用(yong)作清(qing)洗液。