目前石(shi)(shi)英(ying)坩堝生產(chan)涂(tu)層(ceng)技術已被(bei)大(da)多(duo)數廠(chang)家(jia)使(shi)用就是在普通石(shi)(shi)英(ying)砂(sha)溶制(zhi)的坩堝表(biao)面涂(tu)上(shang)一層(ceng)高純度石(shi)(shi)英(ying)砂(sha)使(shi)其(qi)形(xing)成致密層(ceng)，其(qi)致密層(ceng)能阻止單晶硅高溫拉(la)制(zhi)過程中硅與石(shi)(shi)英(ying)坩堝反應(ying)提高成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤(you)尼明高(gao)純石(shi)英砂→高(gao)純石(shi)墨模(mo)具(ju)→真(zhen)空(kong)裝料成型→真(zhen)空(kong)電弧熔制→自然冷卻脫模(mo)→石(shi)英坩(gan)堝初步檢測→冷加工噴砂、切斷、倒(dao)角→石(shi)英坩(gan)堝二次檢測→超凈清(qing)洗、超聲、高(gao)壓噴淋、自動烘干→石(shi)英坩(gan)堝三次檢驗→真(zhen)空(kong)包(bao)裝→成品(pin)入庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝可在1450度以下(xia)使用，分透(tou)(tou)明(ming)和不(bu)透(tou)(tou)明(ming)兩(liang)種。用電弧法制(zhi)的(de)半(ban)透(tou)(tou)明(ming)石英坩堝是拉(la)制(zhi)大直徑單晶(jing)硅，發展大規模集(ji)成(cheng)電路必不(bu)可少(shao)的(de)基礎材料。

當今，世界半導(dao)體(ti)工業發(fa)達已用此坩堝取代了小的(de)透明石英坩堝。具有(you)高純(chun)度(du)、耐溫性強、尺寸大(da)精度(du)高、保溫性好、節約能源、質(zhi)量(liang)穩定等優點。

　　2、不能(neng)和HF接(jie)觸(chu)，高(gao)溫時(shi)，較(jiao)容易易和苛性堿及(ji)堿金屬的碳(tan)酸鹽作用(yong)。

　　3、石英坩堝(guo)適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融樣(yang)品和(he)用(yong)Na2S207（先在212度烘干(gan)）作熔劑處(chu)理樣(yang)品。

　　4、石英(ying)質脆，易(yi)破(po)，使用(yong)時要注意。

　　5、除(chu)HF外，普(pu)通稀無機酸可(ke)用作(zuo)清(qing)洗液(ye)。