目前石(shi)英坩堝(guo)生產涂層技(ji)術已被大多數廠家(jia)使用就是在普(pu)通石(shi)英砂(sha)溶制(zhi)的坩堝(guo)表(biao)面涂上一層高純度石(shi)英砂(sha)使其(qi)形成致密層，其(qi)致密層能(neng)阻止單晶硅高溫拉(la)制(zhi)過程中硅與石(shi)英坩堝(guo)反(fan)應提高成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純(chun)石英(ying)(ying)砂→高純(chun)石墨模具→真空裝料成(cheng)型→真空電弧熔制→自(zi)(zi)然(ran)冷卻脫(tuo)模→石英(ying)(ying)坩堝(guo)初步檢測→冷加工噴砂、切斷、倒角→石英(ying)(ying)坩堝(guo)二次檢測→超凈清洗、超聲、高壓噴淋、自(zi)(zi)動烘干→石英(ying)(ying)坩堝(guo)三次檢驗→真空包裝→成(cheng)品入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英(ying)坩(gan)堝可(ke)在1450度(du)以下使用(yong)，分(fen)透明(ming)和(he)不(bu)透明(ming)兩種。用(yong)電(dian)弧(hu)法制(zhi)的半透明(ming)石(shi)英(ying)坩(gan)堝是拉制(zhi)大直(zhi)徑(jing)單晶硅(gui)，發展大規模(mo)集成電(dian)路(lu)必不(bu)可(ke)少的基礎材料。

當今(jin)，世界半導(dao)體工業發達(da)已用此坩(gan)堝(guo)取代了小的透明石英坩(gan)堝(guo)。具有(you)高(gao)純度、耐溫性強、尺寸(cun)大精(jing)度高(gao)、保溫性好、節約能源、質量穩定等優(you)點。

　　2、不能和HF接觸，高溫(wen)時，較容易(yi)易(yi)和苛性(xing)堿(jian)及堿(jian)金屬的碳(tan)酸鹽作(zuo)用。

　　3、石英坩(gan)堝適于用K2S2O7,KHSO4作熔(rong)劑熔(rong)融(rong)樣(yang)(yang)品和用Na2S207（先在(zai)212度(du)烘(hong)干）作熔(rong)劑處(chu)理樣(yang)(yang)品。

　　4、石(shi)英質脆，易破，使(shi)用時要注意。

　　5、除HF外，普通(tong)稀無(wu)機(ji)酸可用作清洗液。