目前石(shi)(shi)(shi)英坩堝生產涂層(ceng)(ceng)技術已被大多數(shu)廠家(jia)使用就是在(zai)普通石(shi)(shi)(shi)英砂溶制的坩堝表(biao)面涂上一(yi)層(ceng)(ceng)高純(chun)度石(shi)(shi)(shi)英砂使其形成致密層(ceng)(ceng)，其致密層(ceng)(ceng)能阻止單(dan)晶硅高溫拉制過(guo)程(cheng)中(zhong)硅與石(shi)(shi)(shi)英坩堝反應(ying)提高成晶率(lv)。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高(gao)(gao)純石英(ying)(ying)砂→高(gao)(gao)純石墨模具(ju)→真(zhen)空裝料成型→真(zhen)空電弧熔制(zhi)→自然冷(leng)(leng)卻脫模→石英(ying)(ying)坩堝(guo)初步檢測→冷(leng)(leng)加(jia)工噴砂、切斷(duan)、倒(dao)角→石英(ying)(ying)坩堝(guo)二次檢測→超(chao)凈(jing)清(qing)洗(xi)、超(chao)聲、高(gao)(gao)壓(ya)噴淋、自動烘干→石英(ying)(ying)坩堝(guo)三次檢驗→真(zhen)空包裝→成品入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英(ying)坩堝可在1450度以下使用(yong)，分透明和不(bu)透明兩種。用(yong)電(dian)弧法制(zhi)的(de)(de)半(ban)透明石(shi)英(ying)坩堝是拉制(zhi)大直徑單晶硅，發展大規模(mo)集成電(dian)路必不(bu)可少的(de)(de)基礎材料。

當今，世界半(ban)導體工業(ye)發(fa)達已用此(ci)坩堝(guo)取代(dai)了小的透明石英坩堝(guo)。具(ju)有高純度(du)(du)、耐溫(wen)性(xing)強、尺寸(cun)大精度(du)(du)高、保溫(wen)性(xing)好(hao)、節約能源、質量穩定等優點。

　　2、不能和HF接(jie)觸，高溫時，較容(rong)易易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。

　　3、石英坩堝(guo)適(shi)于用(yong)K2S2O7,KHSO4作(zuo)(zuo)熔劑(ji)熔融樣品(pin)和用(yong)Na2S207（先(xian)在(zai)212度烘(hong)干）作(zuo)(zuo)熔劑(ji)處理樣品(pin)。

　　4、石英質脆，易破，使用時要注意。

　　5、除HF外，普通稀無機(ji)酸可用作清(qing)洗液。