目前石英(ying)坩堝生產涂(tu)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)技術(shu)已被大多數(shu)廠家使(shi)用就是在普通石英(ying)砂溶制(zhi)(zhi)的坩堝表(biao)面(mian)涂(tu)上一(yi)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)高(gao)純度石英(ying)砂使(shi)其(qi)形(xing)成(cheng)致密(mi)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)，其(qi)致密(mi)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)能(neng)阻止單(dan)晶硅高(gao)溫拉制(zhi)(zhi)過程中硅與(yu)石英(ying)坩堝反應提高(gao)成(cheng)晶率(lv)。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明高純石(shi)(shi)(shi)英砂(sha)→高純石(shi)(shi)(shi)墨模(mo)具(ju)→真空裝料成(cheng)型→真空電(dian)弧熔制→自然(ran)冷卻脫模(mo)→石(shi)(shi)(shi)英坩堝(guo)初(chu)步(bu)檢測→冷加工(gong)噴砂(sha)、切斷、倒角→石(shi)(shi)(shi)英坩堝(guo)二次檢測→超凈清洗(xi)、超聲、高壓噴淋(lin)、自動烘干(gan)→石(shi)(shi)(shi)英坩堝(guo)三次檢驗→真空包裝→成(cheng)品入(ru)庫。

      石英坩堝用途

1、石英坩堝可在1450度以下使(shi)用，分透明和(he)不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是(shi)拉(la)制大(da)直徑單(dan)晶硅，發展(zhan)大(da)規模(mo)集(ji)成(cheng)電路必不可少的基礎材料(liao)。

當今，世界半(ban)導體工(gong)業發達已用此坩堝取(qu)代了小的透明石英坩堝。具有高(gao)純度(du)、耐溫性強、尺(chi)寸大精度(du)高(gao)、保溫性好、節約能源、質量(liang)穩定等優點(dian)。

　　2、不能和HF接觸，高溫時，較(jiao)容易易和苛性堿(jian)及堿(jian)金(jin)屬(shu)的碳酸鹽作用。

　　3、石英坩(gan)堝適于(yu)用K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔劑熔融樣品和用Na2S207（先(xian)在212度烘干）作(zuo)熔劑處理樣品。

　　4、石英質(zhi)脆(cui)，易破，使(shi)用(yong)時要注意。

　　5、除HF外，普(pu)通稀(xi)無機酸可用作清洗(xi)液。