目前石(shi)英坩(gan)堝(guo)生產涂層(ceng)技術已被(bei)大多數(shu)廠(chang)家使用就是在(zai)普(pu)通石(shi)英砂溶制的坩(gan)堝(guo)表面涂上一層(ceng)高純度(du)石(shi)英砂使其(qi)形(xing)成致密(mi)層(ceng)，其(qi)致密(mi)層(ceng)能阻止(zhi)單晶硅高溫拉制過程中硅與石(shi)英坩(gan)堝(guo)反應提高成晶率。

　　石英坩堝工藝流程

尤尼明(ming)高(gao)(gao)純(chun)石(shi)(shi)英(ying)(ying)砂→高(gao)(gao)純(chun)石(shi)(shi)墨模具(ju)→真空裝料(liao)成型→真空電弧熔(rong)制→自(zi)然冷卻脫模→石(shi)(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝初步檢測(ce)→冷加(jia)工噴(pen)砂、切斷(duan)、倒角(jiao)→石(shi)(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝二(er)次檢測(ce)→超凈清洗、超聲、高(gao)(gao)壓噴(pen)淋、自(zi)動烘干→石(shi)(shi)英(ying)(ying)坩(gan)堝三次檢驗→真空包(bao)裝→成品(pin)入庫。

      石英坩堝用途

1、石(shi)英(ying)坩堝可在1450度以下使(shi)用，分透明(ming)和不透明(ming)兩種(zhong)。用電(dian)弧法(fa)制的半透明(ming)石(shi)英(ying)坩堝是拉制大直徑單(dan)晶硅，發展大規模集成電(dian)路必不可少的基礎材料。

當今(jin)，世界半導體工業發達已用此坩(gan)堝取(qu)代了(le)小的透明石英坩(gan)堝。具有高純(chun)度(du)、耐溫性(xing)(xing)強、尺寸大精度(du)高、保溫性(xing)(xing)好、節約能源、質(zhi)量穩定等(deng)優點。

　　2、不能和HF接觸，高(gao)溫時(shi)，較容易易和苛性堿(jian)及堿(jian)金(jin)屬(shu)的碳(tan)酸(suan)鹽作用。

　　3、石英坩堝適于用(yong)K2S2O7,KHSO4作(zuo)(zuo)熔劑熔融(rong)樣品(pin)(pin)和(he)用(yong)Na2S207（先在212度烘干）作(zuo)(zuo)熔劑處理(li)樣品(pin)(pin)。

　　4、石英質脆(cui)，易破，使(shi)用(yong)時要注意(yi)。

　　5、除HF外，普通稀無機酸可(ke)用作清(qing)洗液。